微波等离子清洗去胶技术
Q240微波等离子去胶清洗机概述：Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理或后处理；MEMS制造中的牺牲层去除。
Q240微波等离子去胶清洗机工艺参数：
- 材质：石英玻璃
- 容积：21公升
- 腔体尺寸：直径240mm，深度460mm
- 腔体后部：铝
- 腔门：铝质材料制作，抽拉式支撑架跟前门相连，便于手动放片；
- 气体分布：前门扩散
- 观察视窗：防紫外及微波
- 支撑架：铝质材料，
- 真空连接：DN40 ISO-KF
- 压力控制：Pirani，1-100Pa
- 真空泵：推荐35m3/h
- 真空阀：电子气动阀，DN40 ISO-KF
- 真空密封：硅树脂
- 气体供应：
- 气体通道：3路数字MFC，装有电磁阀，1000/500/200sccm（N2校准），1/4" Swagelok接头
- 卸压：电磁阀，1/4" Swagelok接头
- 功率：2.45GHz，50-1200W连续可调
- 耦合：微波天线，铝质谐振器，腔体内无电极
系统控制：
- PC, Windows, RS 232, USB, Ethernet (也适用于远程控制)
- 10.4”触摸屏、图形用户界面
- Windows Office兼容
- 存储处理数据和错误信息，处理数据输出
- 工艺参数图形曲线的 监测
- 自动或手动操作
