硅片清洗机概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于*进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的z大化支持z理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。
硅片清洗机应用：
- 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
- Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
- CMP处理后的晶圆片清洗
- 晶圆框架上的切粒芯片清洗
- 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
- 带保护膜的分划版清洗
- 掩模版空白部位或接触部位清洗
- X射线及极紫外掩模版清洗
- 光学镜头清洗
- ITO涂覆的显示面板清洗
- 兆声辅助的剥离工
- 硅片和蓝宝石片清洗
- 带晶圆框架的芯片清洗
- FSI清洗
- 硅片和蓝宝石片清洗
- 带晶圆框架的芯片清洗
- 显示平板，ITO涂层显示屏清洗
- 带图案及无图案掩模版清洗
- 带保护膜分划板的背面清洗
- 薄膜结构胶粘剂清洗
- 光刻胶涂覆/剥离和Piranha去胶
- 背面多晶去除
- 显影和其他刻蚀应用
硅片清洗机选配项：
- 掩模版或晶圆片夹具
- PVA软毛刷清洗（100RPM）
- 化学试剂清洗(CDU)
- 氮气离子发生器
- CMP后的刷子清洗（可高达400RPM）
- 背面去离子水清洗和干燥
- CO2注入，带DIW电阻率监测单元
- 用于DIW或hua'xue'shi'ji化学试剂的内嵌式加热器
- 化学液补满传感器
- FM4910材料
- 25片casssette机械手自动上下片
硅片清洗机型号：
- SWC-3000台式单晶圆/掩模版清洗系统
- SWC-4000立柜式单晶圆/掩模版清洗系统
- SWC-5000带25片cassette机械手自动清洗
- LSC-4000大基片清洗机
- LSC-5000全自动清洗系统
