磁控溅射技术

NSC-4000NSC-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能，zui大到8"旋转平台，zui大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000带有13”铝质腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，我们提供不锈钢腔体，500 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-4000NSC-4000（M）磁控溅射系统产品特点：

• 不锈钢，铝质腔体
• 260或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
• 13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
• 晶振夹具具有的<1 Å的厚度分辨率
• 带观察视窗的腔门易于上下载片
• 基于LabView软件的PC计算机控制
• 带密码保护功能的多级访问控制
• *的安全联锁功能

选配项：

• 不锈钢腔体
• 热蒸镀能力
• RF、DC溅射
• RF或DC偏压（1000V）
• 样品台可加热到700°C
• 膜厚监测仪
• 基片的RF射频等离子清洗
• 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

应用：

• 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
• 光学以及ITO涂覆
• 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
• 带RF射频等离子放电的反应溅射