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NLD-3000原子层沉积系统
面议NPD-4000(M)PLD脉冲激光沉积系统
面议NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统
面议NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD
面议NMC-3000 PAMOCVD系统
面议NMC-4000(M)PAMOCVD系统
面议NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统
面议原子层沉积系统
¥450000NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统
面议NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系统
面议NPE-4000PECVD等离子增强化学气相沉积系统
面议NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
面议磁控溅射技术
NSC-3500(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能,zui大到8"旋转平台,zui大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-3500带有10"派热克钟罩腔体或者13"铝质腔体,3个2"的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-3500(M)磁控溅射系统产品特点:
选配项:
应用: