CVD-1200系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

CVD-1200系统主要功能和特点：

1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，zui高真空可达0.0001Pa；

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。

4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套连接，不漏气；

5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。

主要用途：

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

主要技术参数：

SKGL-1200

控温方式

采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。

加热元件

0Cr27Al7Mo2

工作电源

AC220V      50HZ/60HZ

额定功率

4KW

炉管尺寸

Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

工作温度

≤1150℃

zui高温度

1200℃

恒温精度

±1℃

加热区长度

440mm或220mm/220mm

升温速度

≤20℃/min

密封方式

不锈钢快速法兰挤压密封

ZK-F

真空范围

0.1-0.001Pa

极限真空

4.0*10^-4Pa

产品配置

双级旋片真空泵+分子泵

测量方式

复合真空计

真空规管

电阻规+电离规

冷却方式

风冷

工作电源

AC220V 50/60HZ

抽速

110L/S

ZDFC-Ⅲ

测量范围

5～1*10^-5 Pa

稳压(真空)范围

1～5*10^-3Pa

压力(真空)稳定精度）

±3%

控制范围

2.5*10^3～1*10^-4 Pa

控制精度

± 1%

HQZ-Ⅲ

控制方式

D07-7K质量流量计,D08流量显示仪

流量规格

0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）

线性

±1%F.S

准确度

±1%F.S

重复精度

±0.2%F.S.

响应时间

≤2sec

耐压

3MPa

气路通道

3通道（根据客户需求）

针阀

316不锈钢

管道

Φ6mm不锈钢管

接口

SwagelokΦ6mm