CVD管式炉由开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择。其原理在于在真空压力下，加在电感线圈的射频电场，使反应室气体发生辉光放电，在辉光发电区域产生大量的电子，这些电子在电场的作用下获得充足的能量，其本身温度很高，它与气体分子相碰撞，使气体分子活化。它们吸附在衬底上，并发生化学反应生成介质膜，副产物从衬底上解吸，随主气流由真空泵抽走，称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)。CVD管式炉用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。
主要功能和特点：
1、内置两个温区，可以营造300℃内不同的温度梯度；
2、双温区控制系统采用PID方式控制，控温仪表中可以设置30段升降温程序，每个温区可以单独控温；
3、采用KF快速法兰密封，只需要一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷，避免了螺栓密封人为操作导致漏气的可能；减少了因安装法兰而造成加热管损坏的可能；
4、炉盖可打开，可以实时观察烧结的物料状况，并能迅速降温，满足材料骤冷骤热的实验需要；
5、炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显优于国内纤维材料；
6、加热元件采用内嵌式高电阻优质合金丝0Cr27Al7Mo2，经久耐用，zui高温度可达1200℃。
7、预留了真空、气路快速接口，可配合我司真空系统、混气系统使用；
8、预留了485转换接口，可通过我司软件，与计算机互联，可实现单台或者多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能；可安装无纸记录装置，实现数据的存储、输出。
9、上盖开启自动断电，超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠。
