RIE-10NR-日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备_RIE反应离子刻蚀机-似空科学仪器（上海）有限公司手机版

产品简介

RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统，能够满足非腐蚀性气体化学最ke刻的工艺要求。计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计，RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。

详细介绍

反应离子刻蚀机

SAMCO RIE-10NR



简介： RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统，能够满足非腐蚀性气体化学最KE刻的工艺要求。计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计， RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。应用: 硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。

主要功能和优点：

1、加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）。

2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。

3、自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护。

4、于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，全球安装了400多个系统。

主要参数规格：
基板	220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）
负载	开放式
上下电极	ø240 mm
射频功率	300瓦@13.56兆赫，自动匹配（500瓦为选项）可切换射频供电电极（阳极/阴极模式）为选项
气体管道	内部2条MFC控制的气体管道（最多6条）
泵	干泵（500升/分钟）
操作系统	触摸屏操作（可选择基于Windows的用户界面）、配方管理
端点检测	光学发射光谱（OES）作为一种选择
尺寸	500 mm（宽）x 920 mm（深）x 1501 mm（高）

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