CMP研磨抛光系统

精密研磨抛光系统是生产商英国logitech公司发布的一款适用于科学研究水平的研磨和抛光机型，该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理，整个过程全封闭控制，并内置自清洗功能，提升对操作人员的安全保护；全部采用电脑程序控制，可实现数据传输、工艺存储及数据实时监控与反馈等功能。

CMP研磨抛光系统

武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发，以力学试验机仪器为主，同时销售各种、中低端分析仪器。现有员工60多人，公司成功开发了PCI放大采集卡和中文版试验软件，并采用全数字化，操作简捷，*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等标准、国家标准、行业标准的要求，公司亦通过了ISO9001质量体系认证和国家计量体系认证，荣获了“武汉市第九界消费者满意单位”的称号。

产品广泛应用于电子、高校、政府研究机构、环保机构、防军工、航天、石油化工、纺织制造、第三方检测机构、家级别研究院、新能源、集成电路、芯片、封装测试、半导体行业、显示器领域、光电材料、锂电池、机械生产等领域。并与武汉理工大学、华中科技大学等建立了长期合作，每年投入大量研究经费，招揽各方秀的技术人才加盟突破国内技术壁垒，不断攻克新的技术难题，另外公司还积极拓展海外业务，产品远销越南，印度，埃及等国家和地区。