匀胶显影机

匀胶显影机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-06-22 15:34:34
1152
属性:
产地类别:国产;应用领域:化工;
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产品属性
产地类别
国产
应用领域
化工
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武汉赛斯特精密仪器有限公司

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产品简介

匀胶显影机 适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。

详细介绍

匀胶显影机

一、产品概述:
    650型显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。

二、显影机工作原理:
显影系统具有可编程阀,它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行,如冲洗(通常是去离子水或溶剂),然后干燥(通常是氮气)等后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在*干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。蚀刻/显影/清洗全套系统还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。

匀胶显影机

三、匀胶机主要性能指标:
1、腔体尺寸:9.5英寸 (241 毫米);
2、Wafer&芯片:直径6英寸(150毫米)的晶圆片或者5x5英寸(125毫米)的方片;
3、非真空托盘:聚丙烯材质非真空托盘,可承载2、3英寸及150毫米的晶圆片-并带有背面清洗功能;
3、转动速度:0-12,000rpm,
4、旋涂加速度:0-30000rpm/sec(空载);
5、马达旋涂转速:稳定性能误差 < ±1%;
6、工艺时间设定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;
7、高精度数码控制器:PLC控制,设置点精度小于0.006%;
8、程序控制:可存储20个程序段,每个程序段可以设置51步不同的速度状态;
9、分辨率:分辨率小于0.5转/分,可重复性小于±0.5转/分,美国国家标准技术研究院(NIST)认证过的,并且无需再校准!]
10、腔体开关盖板:透明ECTFE材质圆顶盖板,便于实时进行可视化操作;
11、腔体材质说明:用聚丙烯材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体;
12、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;

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