实验室真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。
2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。
3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。
4.主要用途：
1. 开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
2. 制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，例：银、铝、 铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO......
3. 两靶单独溅射、依次溅射、共同溅射。
5.应用领域：
1. 高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。
2. 钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV 太阳能电池等行业。
适用范围：
1.建筑五金：卫浴五金(如水龙头).门锁.门拉手.卫浴、五金合叶、家具等。
2.制表业：可用于表壳.表带的镀膜、水晶制品。
3.其它小五金：皮革五金.不锈钢餐具.眼镜框、刀具、模具等.
4.大型工件：汽车轮毂、不锈钢板.招牌.雕塑等。
5、不锈钢管和板(各种类型表面)
6、家具、灯具、宾馆用具。
7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器皿等五金制品镀超硬装饰膜。
8、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰(金银)纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜。
