镀膜设备主要功能
镀膜设备是一种用于材料科学领域的科学仪器，能够在微颗粒表面沉积各种金属薄膜(包括磁性金属膜)、金属氧化物薄膜、金属氮化物薄膜及合金薄膜，且所镀薄膜致密、均匀、纯度高、附着力强等。
1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。
2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。
3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。
4.主要用途：
1. 开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
2. 制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，例：银、铝、 铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO......
3. 两靶单独溅射、依次溅射、共同溅射。
5.应用领域：
1. 高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。
2. 钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV 太阳能电池等行业。
操作程序
真空镀膜设备操作程序具体操作时请参照该设备说明书
和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。
①检查真空镀膜机各操作控制开关是否在"关"位置。
②打开总电源开关，设备送电。
③低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
④安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。
⑤落下钟罩。
⑥启动抽真空机械泵。
⑦开复合真空计电源(复合真空计型号：Fzh-1A)。
a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
b.低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
⑧当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
⑨真空镀膜机开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。
⑩低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀(阀杆顺时针旋转)。
⑪等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。
a.发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。
b.左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
⑫旋转发射调节钮“4”，使高压真空表“5”内指针指向5。
⑬发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。
⑭旋转零点调节钮“10”，让高压真空表“5”内指针指向0位置。
⑮发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。
⑯旋转标准调节钮“3”，让高压真空表“5”内指针指向10。
⑰旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。
⑱当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，钟罩内被镀件PVDF膜转动。
⑲开蒸发钮开关。把电流分插塞插入蒸发电极分配孔内(设有1、2、3、4孔，可插入任意一孔)。
⑳右手旋转右侧调压器手轮，慢慢旋转升压。
a.从视镜窗口观察钨螺旋加热子的加热温度颜色变化情况。
b.当钨螺旋加热子颜色变成黄橙色，铝丝开始熔化时，左手操作挡板钮，移开钨螺旋上方挡板。
c.铝丝全部熔化蒸发，挡板回原位。
d.右手旋转调压器手轮回零位。第一次蒸镀工作完成。
21.如果再想蒸镀一次(为了增加电极金属层厚度)：把电流分插塞拨出插入另一个电极分配孔。重复⑳操作动作。
22.关闭规管灯丝开关。关闭高压阀(逆时针转手柄)。关闭工件旋转。关闭蒸发。旋转机械泵钮至指向扩散泵位置。
23.低压阀拉出。钟罩充气。充气一段时间，当没有气.声时，升钟罩。
24.钨螺旋加热子内加铝丝。PVDF薄膜调换另一面向下(原下面已镀一层铝膜面向上)。紧固在转动圆盘上。
25.落钟罩。开机械泵。
a.左下旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。
b.当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，低压阀推入。
c.左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
d.当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，开高压阀。旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。
e.当低压真空表“2”内指针顺时针移动到指向0.1Pa时，开规管灯丝。
f.由⑰开始重复操作至⑳。
26.PVDF薄膜蒸镀完铝层后，按顺序关闭规管灯丝、高压阀、机械泵、扩散泵。把低压阀拉出。钟罩充气，充气完毕后升钟罩。取出工件，做好钟罩内清理工作。
a.落下钟罩。
b.开机械泵，抽3~5min，停机械泵。
c.切断供电总开关。
d.1h后再关闭冷却水。操作全部完成。
27.正常生产中，如遇到突然停电时，要立即切断高真空测量，关闭规管灯丝，高压阀、低压阀拉出。来电后，先让机械泵启动工作3~5min后，再转入正常生产。
