小型镀膜设备是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析,尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器配有机械泵、分子泵,分子泵系统特别适用于对真空度要求高、真空环境好的用户选用。
1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。
2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。
3.该设备主机与控制一体化设计,操控方便;结构紧凑,占地面积小。
4.主要用途:
1. 开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
2. 制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等,例:银、铝、 铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO......
3. 两靶单独溅射、依次溅射、共同溅射。
5.应用领域:
1. 高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。
2. 钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV 太阳能电池等行业。
薄膜均匀性概念:
1、厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整。
2、化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。
3、晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。