无掩膜/激光直写光刻机

UV Litho-ACA无掩膜/激光直写光刻机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-09-06 14:14:13
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深圳市矢量科学仪器有限公司

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产品简介

无掩膜/激光直写光刻机 参数:1. 光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器
2. 线宽:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效率:可达到3000mm2/min@5μm4. XY行程:55~205mm5. 样品尺寸:最小3mm*3mm 最大8 inch6.应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、*进芯片封装、光通讯。

详细介绍

1.产品概述:

利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间 选择性的曝光,进而将设计好电路版图转移到 硅片上形成集成电路,这一工艺就是紫外光刻 技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了 所制造的集成电路的集成度,也成为了评价光 刻设备品质的关键指标。激光直写设备具备很 高的灵活性,且可以达到较高的精度,但由于 是逐行扫描,曝光效率较低。托托科技的无掩 模版光刻设备基于空间光调制器(DMD/DLP) 的技术,实现了高速、高精度、高灵活性的紫外光刻。

2.产品参数

光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器

线宽:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm              

光刻效率:可达到3000mm2/min@5μm

XY行程:55~205mm

样品尺寸:最小3mm*3mm  最大8 inch

应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、*进芯片封装、光通讯芯片光刻


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