CMP后清洗机

GNP CEANER-412SCMP后清洗机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-09-04 16:56:54
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深圳市矢量科学仪器有限公司

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产品简介

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~12“)晶圆。

详细介绍

1. 产品概述:

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~12“)晶圆。

适用晶圆尺寸:100mm(4")300mm(12")

配置:喷淋清洗、单边刷清洗、旋转漂洗干燥(可选:分离QDR)

清洁器尺寸:1,100W 1,100D 1,650Hmm

电刷尺寸:070(外径)032(内径)170()毫米

刷隙调节:PLC自动控制(可选刷隙范围:-10mm ~ 2mm)

化学:NH4OH ~ 1%

可用刷型:双面PVA

电刷转速:最高400rpm

旋转速度:手动加载与自动顺序,湿入/干出,最大2,000rpmDIW冲洗/ N2

2. 工艺流程

手动加载,自动顺序,湿/干液晶触摸屏显示器,程序控制PLC


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