1. 产品概述：

GAMA系列6/8英寸全自动槽式清洗机满足全部湿法工艺需求，覆盖RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等应用，可用于典型0.35um、0.18um工艺节点，可支持90nm工艺节点，可兼容6寸和8寸晶圆。

2. 设备应用：

  晶圆尺寸

  6、8 英寸

  适用材料

  硅，碳化硅，硅基氮化镓

  适用工艺

  预清洗、去胶清洗、氮化硅去除、金属去除(Co,Ti)、Recycle 清洗、抛光后清洗、Epi 前清洗、 Epi 后清洗

  适用领域

  集成电路、衬底材料、化合物半导体、功率半导体

3. 特色优点：

北方华创 GAMA Series 清洗机在腐蚀均匀性方面表现明显。腐蚀均匀性对于保证芯片制造的一致性和稳定性具有关键意义。
这款清洗机通过精心设计的流体流动系统、化学溶液分布机制以及温度控制策略，确保在整个晶片表面实现高度均匀的腐蚀效果。无论是在大面积的晶片还是复杂的图形结构区域，都能保持腐蚀程度的一致性。
可能采用了多喷头均匀喷淋、旋转式清洗等技术，使化学溶液能够均匀地覆盖晶片表面，避免出现局部腐蚀过度或不足的情况。同时，精准的温度控制系统能够确保整个清洗过程中温度的均匀性，因为温度的差异可能会影响腐蚀反应的速率和均匀性。在实际应用中，即使面对不同材质和厚度的晶片，该清洗机也能提供出色的腐蚀均匀性，从而有效提高芯片的质量和性能。

  4.设备特点

  结构设计紧凑，占地面积小

  模块化设计，配置灵活、可扩展

  成熟的工艺槽设计，确保工艺稳定性

  精确的化学称量系统，实现高质量工艺