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型号：GVC-2000/GVC-2000P/GVC-2000TD
磁控离子溅射仪颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜；低压大电流溅射，效率更高。
磁控离子溅射仪设备特点：
基本无温升、样品表面无热损失
颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜
低压大电流溅射，效率更高
公司深耕国内科研市场近十年，以中科院等专业院所背景的技术力量为依托， 为国内各大科研机构及材料研究客户提供科研仪器设备和专业技术服务。公司以代理国内外材料化工方向的仪器设备为核心业务，产品覆盖材料制备、表征、光、热、 电、磁等研究领域。
