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CVTD 材料气相输运与沉积系统可以满足块体、粉末、 薄膜等样品真空（保护气氛下）合成生长制备，广泛适用于低维材料（0D/1D/2D）、磁性材料、热电材料、能源材料、光电材料、半导体材料，金属材料、超导材料等材料器件生长制备，已经被众多高校、科研院所和企业使用，成为众多材料实验研发的仪器。
CVTD 材料气相输运与沉积系统特点：
该系统由 CVT 和 CVD 组成，主要包括 CVT 高真空自动熔封机、真空泵组、高温输运和沉积生长管式炉、气体流量控制等部分组成。其中 CVT 模块由高真空熔封和双温区管式炉组成，主要用于材料样品在石英试管中真空环境状态下（或保护气氛下）完成熔封封管；CVD 模块采用双温区高精度管式炉，可通气氛抽真空(选配)，，主要用于 CVT、CVD、预烧、烧结、镀膜等。
