PICOSUN™ R-200高级型ALD系统是ALD科研设备市场的，在拥有百用户。它已经成为一些创新公司和研究机构的研发工具。

        灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜，超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。的热壁设计、独立的前驱体管路和特殊的载气设计，使得无颗粒沉积广泛应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的材料。即使在挑战性的多孔材料、超高深宽比和纳米颗粒表面沉积，系统都能实现的均匀性，这些都归功于我们的技术Picoflow™。Picosun™R-200高级型系统配备功能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体源。高效率和拥有的远程等离子选项可以沉积金属而不发生短路，不存在等离子体损坏的危险。系统可集成手套箱，超高真空系统、手动或半自动加载系统，集群系统，粉末反应腔，卷对卷反应腔和各种在线分析系统，使您的研究变得高效和灵活。即使将来您改变研究领域，它依就会是您帮手！