间歇式高真空蒸发设备EI系列

特征

• 可配备各种蒸发源（EB、电阻、EB+电阻）

• 根据工艺（升空、行星、卫星等）的基材支架

• 兼容Φ2英寸至6英寸基板、矩形基板、硅、化合物、玻璃和陶瓷基板。

• 液晶触摸屏集中显示和操作

• 使用 PC 的出色操作性和功能（配方功能、数据记录、维护辅助功能）

目的

• 功率器件等相关化合物

• LED、LD、高速器件

• 用于各种实验

• 其他一般电子零件

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