其他品牌 品牌
经销商厂商性质
深圳市所在地
日本ULVAC爱发科半导体卧式热处理设备
面议
日本ULVAC爱发科半导体小型冻结真空干燥
面议
日本ULVAC爱发科半导体冻结真空干燥装置
面议
日本ULVAC爱发科半导体真空诱导溶解炉
面议
日本ULVAC爱发科半导体热辊真空热处理炉
面议
日本ULVAC爱发科半导体卧式真空热处理炉
面议
日本ULVAC爱发科半导体立式真空热处理炉
面议
日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空热处理炉
面议
日本ULVAC爱发科半导体中电流离子注入机
面议
日本ULVAC爱发科半导体SiC 高温离子注入机
面议
日本ULVAC爱发科半导体中电流离子注入机
面议
日本ULVAC爱发科半导体兼容高能离子注入机
面议日本进口ULVAC爱发科多级罗茨干式真空泵
日本进口ULVAC爱发科多级罗茨干式真空泵
可以将在高温区域的均热CVD、蚀刻等中产生的升华废气以气态排出。
UR系列可以达到比HR系列更高的温度。
配备氦气密闭电机，密封结构，安全性高。
瞬时停电对策
我们采取了防止1000毫秒内瞬时停电的措施。
优异的耐腐蚀性
主要部件标准采用表面硬度高、耐腐蚀性优异的特殊表面处理。当腐蚀性气体排出时，减少泵内部的腐蚀。
通讯功能
可以读取有关泵运行状态和警告/警报历史记录的数据。通过使用专用软件并与计算机通信，可以进行集中监控。
CVD 装置
蚀刻设备
灰化装置
酒精性肝病 (ALD)、酒精性肝炎 (ALH) 等
| 模型 | HR60 | HR90 | HR300 | HR600 | HR1200 | ||||
| 使用泵 | 决策支持系统 | HR60 | HR90 | HR60 | HR90 | HR90 | |||
| 甲基丙烯酸甲酯 | - | - | PRC-003A | PRC-006A | PRC-012A | ||||
| 最大 抽速 | 50赫兹 | 立方米/小时（升/ 分钟） | 62（1030） | 112（1860年） | 359（5,980） | 653(10,900) | 1,012(16,900) | ||
| 60赫兹 | 立方米/小时（升/ 分钟） | 80（1333） | 126（2100） | 365（6,080） | 701（11,700） | 1,051(17,500) | |||
| 到达圧力 | 出色地 | 5 | 0.67 | ||||||
| 最大入口压力 （吸入压力） | 大气压*1 | ||||||||
| 最大排气口压力 （排出压力） | 出色地 | 1~大气压 | |||||||
| 进气口（CE规格） | VG50(KF50) | VG80 (KF50) | VG80 (KF80) | VG100(KF100) | |||||
| 排气口 | KF40 | ||||||||
| 质量 | 公斤 | 180 | 245 | 275 | 370 | 420 | |||
| 电力 | 三相 | 交流电压(赫兹) | 200(50/60), 220(60) | ||||||
| 当前值 | 稳定状态 | 一个 | 7.1 (200V时) | 11.2 (200V时) | 7.8 (200V时) | 12.9 (200V时) | 15.4 (200V时) | ||
| 最大值 | 一个 | 7.3 (200V时) | 11.8 (200V时) | 8.1 (200V时) | 13.8 (200V时) | 18.9 (200V时) | |||
| 冷却水暂压 | 兆帕 | 0.1~0.3 | |||||||
| 冷却水进出水压差 | 兆帕 | >0.1 | |||||||
| 冷却水流量 | 升/分钟 | >5.0 | |||||||
| 吹扫气体 | 一次压力 | 兆帕 | 0.1~0.5 | ||||||
| 二次压力 | 兆帕 | 0.05~0.1 | |||||||
| 氮气吹扫 | 轴 | 空间光调制器 | 5 | ||||||
| 加斯巴拉 | 空间光调制器 | 0~45 | |||||||
*1 对于 HR300、HR600 和 HR1200，请勿在吸入压力 200Pa 或更高的情况下连续运行。
