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紫外臭氧清洗机
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该企业相似产品
半导体领域仪器设备：等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机等。 理化实验室仪器设备：酸蒸逆流清洗器、真空赶酸系统、酸纯化器、智能消解仪、恒温电热板等
企业历程 :
◆ 2006 年，在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司（CIF International Group Co.,Ltd）。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。
◆ 2008 年， 自主研发生产石墨电热板以来， 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备， 从此走上研发生产专业化道路。
◆ 2010 年，掌握了等离子核心技术，自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。
◆ 2014 年， 在中国注册成立华仪行（北京） 科技有限公司， 正式进入中国市场， 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。
◆ 2015 年，自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。
◆ 2017 年，自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。
◆ 2018 年，在中国成注册立赛福仪器承德有限公司，将研发制造业务全部移至中国。
◆ 2019 年，电镜专用远程等离子清洗机研发成功。
◆ 2021 年，自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品，完善了等离子产品线。
◆ 2023 年，科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。
公司专注材料表面处理技术：
◆ 改性（等离子清洗机、紫外臭氧清洗机） ◆ 去胶（等离子去胶机）
◆ 蚀刻（等离子刻蚀机） ◆ 涂层（等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机）
企业愿景：
致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。
企业使命：
CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人，同呼吸，共命运，共同成长，共同发展，共同成就梦想！
详细信息
紫外臭氧清洗机具有干洗处理、无需真空处理、无破坏灯特长，紫外线灯和照射装置的高输出照射技术，实现了以往用溶剂或超声波清洗液难以达到的高品质、高速处理效果。为客户能制造出更高品质的产品而提供紫外线清洗和紫外线改质。
紫外臭氧清洗机的灵活性，能满足有机分子去除和其他众多领域的应用。可以直接在空气中操作，也可通过两个标准气路中的一个接入氧气，从而增加臭氧产量。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机通过可编程数字控制器控制系统工作进程，来确保清洗时间和各项参数的准确性。是一种简单，经济，快速的材料表面清洗设备，只需把样品放置到样品盘上，关上舱门，设置时间，并按运行，就可以了，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。
紫外臭氧清洗机产品特点：
1.UVO基础型采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。UVOP和UVOT系列采用5寸彩色触摸屏设置显示计时时间及加热温度。
2.自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。
3.数字倒计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。
4.可随时手动中断处理过程。
5.自动记录之前清洗参数设置。
6.样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。
7.顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。
8.上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。
9.样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。
10.UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。
11.高强度UV灯源，波长185nm和254nm。
12.UV反射罩（长x宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。
13.双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。
14.带进&出气口双气路设计，可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。
15.UVO5可选外置臭氧中和器，UVO9、UVO12系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。
16.可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。
