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PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积设备
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科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供*的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。
详细信息
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积设备
仪器简介：
该系统中的PECVD可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。标准配置射频(RF)，可选用空阴*密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体（ICP）源。最大沉积尺寸为8英寸。
使用花伞式的阴极射频等离子源，压盘可由射频或脉冲直流控制，电阻加热，循环水冷。标准配置由一路载气和两路反应气组成，也可以选配流量计。
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积设备
设备规格：
计算机控制的高品质沉积设备；
射频花伞喷淋头等离子源；
最大可沉积8英寸直径的薄膜；
RF偏压基底夹具；
水冷平台(water cooled platen)；
一路载气和两路反应气通过流量计控制流量；
分子涡轮泵；
基本真空度10-7 Torr，200L/sec涡轮分子泵；
空气控制阀；
技术参数：
PECVD参数：
平板尺寸(Platen size) 8英寸
源直径(Source diameter) 8英寸
气路数(No. of gas feeds) 4(2反应气，1载气，1排气)
源到平板距离(Source to platen distance) 2英寸或可以调节
最高平板温度(Max. platen temp.) 400℃
射频电源(RF power supply source) 600瓦，13.5 MHz
射频偏置(RF bias) 300瓦，13.5 MHz
RIE参数：
电脑控制，全能自锁
电极： 8”
电极冷却: 水冷
流量计MFC数量: 标配4个
RIE腔体：铝制，13”直径大小
工作压力： 0.02-500 mTorr, 动态压力控制
射频电源： 13.5 MHz, 600 W ，带自动调频，
真空度 : 10-7 Torr 以上，配涡沦分子泵, Baratron and WR 真空规
N2 吹扫: 整个腔体和气路
气体分散: 喷淋头式
硅片装载Wafer Load: 手动，气动式掀盖放置
等离子体源Plasma Sources: 台板射频偏压，可以产生-400V 偏压
主要特点：
柜式PECVD/ RIE系统，电脑Lab View软件控制
PECVD 等离子体源：平面喷淋头射频电极产生离子源
流量控制 :4个流量计（MFC） (针对 PECVD： NH3, 2%SiH4/Ar, O2, 和 N2O)
PECVD样品台Platen : 8”不绣钢，可加热至300C，水冷，温度可控，可配射频偏压 （选配）
PECVD沉积腔尺寸 : 14” x 14” x 14” ，不绣钢。真空度要求 5 x 10 - 7 Torr 以上
PECVD沉积腔前门可视窗口（5“直径），手动门（8”直径），和10“法兰，硅片在开门后手动放置
RIE腔体尺寸： 13” 直径，铝材质，掀盖式放置，气动式开门, 工作压力 : 0.02 to 1 Torr
铝质射频台，最大至8”硅片，水冷，（冷却器未包括，需要用户提供）
喷淋头式气体分散
配加热工作时使用Baratron真空计(用于RIE)和BOC Edwards 宽频真空计(用于RIE & PECVD)
3个流量计（MFC），用于RIE(C2,BCl3,and N2) 全自动过程压力控制
VCR接头和 Nupro阀门 , 氮气线吹扫，电脑控制质量流动控制器（MFC）
德国普发公司TPH261PC型200L/sec耐腐蚀涡轮分子泵和BOC公司RV12式机械泵组合使用
射频供电： 600 W，13.5MHz 带自动调频。接入电源 220 V, 3PVAC, 20 Amp/Phase, 50/60 Hz,
