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超高真空磁控溅射镀膜系统
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科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供*的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。
详细信息
超高真空磁控溅射镀膜系统
超高真空磁控溅射镀膜系统（UHV SPUTTER）
仪器介绍:
美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。
我司代理的PVD公司生产的磁控溅射系统可以实现在最大300mm衬底上沉积金属和电介质薄膜。使用RF、DC或脉冲DC电源的磁控溅射源可以单个模式或者联合-沉积模式工作，以便生产可以对满足广泛的薄膜要求。我司生产的钛磁控溅射源的尺寸可从1 inch（25mmm)到8inch（200mm)任选 ,并搭配内置倾斜装置以满足按照沉积工艺进行的微调。衬底支架符合最大300mm直径的晶片需求，并可对晶片加热至850°C及加载RF偏压。磁控溅射系统可按客户需求增减其他窗口用于诸如残余气体分析（RGA）、反射高能电子衍射（RHEED)或椭偏仪（ellipsometry）。
技术参数：
Vacuum Chamber: 304不锈钢圆柱形腔体，满足不同客户的定制需求。
Pumping: 分子泵或冷凝泵，机械泵真空系统
Load Lock: 手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到300mm大的圆片，高真空背景传递
Process Control: PC / PLC自动控制界面，菜单控制，数据获取和远程控制
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚监控，光学膜厚监控，RGA残余气体分析
Substrate Fixture: 单片，多片，星状衬底夹具
Substrate Holders: 可加热，冷却，偏压，旋转
Ion Source: 衬底预清洗，纳米表面改性
Deposition Techniques
Magnetron Sputtering RF, DC, or Pulsed-DC;具有射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射。
Glancing Angle Depostion (GLAD)Cathodic Arc Plasma Deposition 倾斜角度溅射。
