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等离子体增强化学气相沉积镀膜系统
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化,为广大中国用户提供仪器、设备,周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国,纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域,都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代,我们愿意化为一座桥梁,见证中国科技水平的提升,与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港,在中国上海设立了分公司,在国内多个城市设立了办事处或维修站,旨在为客户提供*的产品和服务。2010年,科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心,同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务,我们拥有专业的应用维修人员,并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件,能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应,72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务!
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统,主要用户包括:中科院物理所,中科院半导体所,中科院大连化学物理研究所,国家纳米中心,上海纳米中心,北京大学,清华大学,中国科技大学,南京大学,复旦大学,上海交通大学,华东理工大学,浙江大学,中山大学,西安交通大学,四川大学,中国工程物理研究院,香港大学,香港城市大学,香港中文大学,香港科技大学等。
等离子体增强化学气相沉积镀膜系统
PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).
我司按照客户不同的应用需求,提供高质量的PECVD满足不同的研究生产需求。
我司提供的PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。最大沉积尺寸为12英寸。
通常选用射频淋浴源(RF)或带有不规则气体分布的空心阴极射频等离子体源作为反应源产生等粒子体。
部分PECVD可以升级到PECVD & 反应离子蚀刻双功能系统(带ICP源)。
等离子体增强化学气相沉积镀膜系统
系统参数:
腔体极限真空度:10-7 torr;
等粒子源: 射频淋浴源(RF)、空心阴*密度等离子体源(HCD)、感应耦合等离子体源(ICP)或微波等离子体源, VHF(甚高频)电源
衬体直径:最大12” (300 mm)直径
带RF偏压的衬底托;
加热温度:最高800°C;
最高可达8路MFC和多样化的气体选择;
均匀性:≤±3%;
预抽真空室和自动晶片装卸门;
全自动控制;
应用领域:
等离子诱导表面改性;
等离子清洗;
等离子聚合;
SiO2, Si3N4, DLC及其它薄膜;
碳纳米管(CNT)的选择性生长。