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激光直写无掩膜光刻机
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科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供*的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。
详细信息
激光直写无掩膜光刻机
美国AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！
激光直写无掩膜光刻机产品优点：
微米和亚微米光刻,最小0.6微米光刻精度
紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用
灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。
可升级开放性系统设计。
按照客户要求自由配置
使用维护简单, 设备耗材价格低。
应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。
曝光镜头
• 光源:200W汞灯.
• 光源寿命:>1000小时.
• 涵盖了汞灯的波段，范围宽， >510nm 下对准
衬底光照波长：
365nm+/-5 nm
405 nm+/-5nm
435nm+/-5 nm
• 波段曝光模式，可以在波段350–550nm范围内进行单次曝光.
• 像素大小Pixel Sizes included with system
1.25微米， 4X 物镜， (5 um 最小线宽)
0.25微米， 20X 物镜， (1 um 最小线宽)
• 256级灰度识别
• 4X物镜可以在曲面构建1mm 深的结构， 而不用移动镜头和样品台
• 一体化的光学过滤器可以在曝光过程中保持工作.
• 可以使用掩膜板和无掩膜两种工作模式.
• 可以实现整个XY轴样品台移动范围内的大尺寸图形曝光.
• 单一在线式相机可以观测样品并聚焦样品。.
• 多像素曝光可以提供大于750000个像素处理，在一次静态曝光中.
一体化硬件和软件功能
• C语言基础上的软件，使用方便，修改以及和其它系统整合容易.
• 全自动聚焦
• 镜头和样品台在视场内校准。
• 管理员可控制使用者权限
• 程序可存储及调用
• 全自动面与面之间的对准，自动找平
• 远程网络诊断
• 微软Windows程序的个人电脑，集成与系统中.
全自动样品台
• 适合60mm方片衬底.
• 曝光面积60mmx 60mm，在此面积内适合所有像素尺寸.
• 线性位移平台
• X轴和 Y轴移动
• 总移动范围: 60mm
• 准确性:+/-1微米，在每个轴的位移总长
• 重复性: +/-150nm ，每个轴
• 精度:5nm，每个轴
• Z 轴移动
• 总移动范围:5mm
• 准确性:+/- 0.5微米
• 重复性: +/-250nm
• 旋转角度移动
• 总移动范围: 135度
• 准确性:+/-5 arcsec
• 重复性: +/-2 arc sec
• 4轴控制器，并开发数字界面.
• 通用的真空吸附样品台，支持方片衬底
CCD相机
• 1/2”步进扫描式CCD
• 感应区域:6.4mmx4.8mm
• 1392x 1024像素阵列
• 像素大小：4.65微米x4.65微米
• IEEE1394 视频输出
• 保证*兼容NI Windows软件
