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mask aligner半自动光刻机

型号
参数
产地类别:国产 应用领域:能源,电子
科睿设备有限公司

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科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化,为广大中国用户提供仪器、设备,周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国,纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域,都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代,我们愿意化为一座桥梁,见证中国科技水平的提升,与中国科技共同飞速成长。
      科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港,在中国上海设立了分公司,在国内多个城市设立了办事处或维修站,旨在为客户提供*的产品和服务。2010年,科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心,同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务,我们拥有专业的应用维修人员,并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件,能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应,72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务!
      因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统,主要用户包括:中科院物理所,中科院半导体所,中科院大连化学物理研究所,国家纳米中心,上海纳米中心,北京大学,清华大学,中国科技大学,南京大学,复旦大学,上海交通大学,华东理工大学,浙江大学,中山大学,西安交通大学,四川大学,中国工程物理研究院,香港大学,香港城市大学,香港中文大学,香港科技大学等。



详细信息

mask aligner半自动光刻机

半自动光刻机
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
MIDAS为全球*的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

产地:韩国MIDAS公司,一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:MDA-400M, MDA-60MS



mask aligner半自动光刻机主要特点:
- 光源强度可控;
- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
- 系统控制:手动、半自动和全自动控制;
- 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式;
- 真空吸盘范围可调;
- 技术:可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式
- 双CCD显微镜系统,最大放大1000倍,显示屏直接调节,比传统目镜对准更方便快捷,易于操作。
- 特殊的基底卡盘可定做;
- 具有楔形补偿功能;



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产品参数

产地类别 国产
应用领域 能源,电子
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详询客服 : 0571-87858618
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