起订量：
ALD R-200 原子层沉积系统
- 型号
- ALD R-200
该企业相似产品
广州竞赢有限公司是一家综合性的商贸企业，集实验室设备经销、实验室组建策划于一体。公司经营的商品主要包括：Ted Pella公司微波快速组织处理系统及电镜耗材、DOSAKA切片机、英国Aquila NKD薄膜分析系统、法国CAD混凝土流变仪、英国MILLBROOK公司 MiniSIMS二次离子质谱仪、美国NEOCERA公司 PLD/PED沉积系统等生化仪器，检测仪器、环保仪器、化学试剂、实验室耗材等。目前，竞赢公司与国内外数百家实验仪器生产厂家有着良好的业务联系和协作关系，客户涉及高校、科研院所、医院、企业、政府部门等多个领域。竞赢员工90%以上拥有学士、硕士学位，雄厚的技术实力是竞赢公司质量和服务的有力保证。 “专业精神、真诚服务”是竞赢化工的服务宗旨。我们不懈地追求完善的售前、售后服务以提高客户满意度。为了全面提升竞赢公司的服务质量，除了不断引进新的产品，近年来我们更着重于从优化组织构架、培训提升员工服务意识等。面对新的挑战，我们深沉思索、感悟良多，“学习成就未来”将指导我们明确方向、激励我们追求*！
详细信息
ALD R-200原子层沉积系统产品介绍：
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现的均匀性，包括挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度小的薄膜层。在基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的，*分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列*的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。
ALD R-200原子层沉积系统技术指标：
衬底尺寸和类型 | 50 – 200 mm /单片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底 粉末与颗粒 多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品 Roll-to-roll , 衬底大宽 70 mm |
工艺温度 | 50 – 500 °C, 可选更高温度 |
基片传送选件 | 气动升降（手动装载） 预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ） 半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现 25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现 |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源、等离子体（多4路气体） 6根独立源管线，多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线） |
重量 | 350kg+ 200 kg |
尺寸（ W x H x D)） | 取决于选件 小146 cm x 146 cm x 84 cm 大189 cm x 206 cm x 111 cm |
选件 | 集群工具，PICOFLOW™ 扩散增强器，集成椭偏仪，QCM，RGA，超高真空兼容，N2发生器，尾 气处理器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载） |
验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
应用领域：
客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料 | 非均匀性(1σ) |
AI2O3 (batch) | 0.13 % |
SiO2 (batch) | 0.77 % |
TiO2 | 0.28 % |
HfO2 | 0.47 % |
ZnO | 0.94 % |
Ta2O5 | 1.0 % |
TiN | 1.10 % |
CeO2 | 1.52 % |
Pt | 3.41 % |
