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起订量：
SOMIS&S12000/V-A ALD
- 型号
- SOMIS&S12000/V-A
无锡松煜科技有限公司是一家集开发、生产、销售为一体的高速发展的光伏设备及半导体工艺设备专业的设备制造商。
2017年12月，正隆天基公司在无锡注册成立。
公司主要产品有：太阳能电池片*工艺设备，半导体技术*工艺设备，电子元器件*工艺设备，集成电路工艺设备，LED工艺设备，砷化镓工艺设备，纳米材料工艺设备，磁性材料工艺设备，航空航天及国家*单位*的工艺设备，产品种类多达上百个。例：太阳能电池片*工艺设备---ALD，扩散炉，LPCVD,PECVD。
无锡松煜公司技术力量雄厚，各类专业技术人员齐全，具有自主研发、设计和生产各种产品的能力。公司将本着为客户解决问题的思路，坚持创新、进取、务实、感恩的企业理念，以*、科学、严谨的管理手段为基础；以规范化、合理化、标准化、效率化为准则，不断提升产品质量、提升产品可靠性，全心全意为客户服务。
无锡松煜将围绕核心技术，不断完善人力、资本、管理、技术等平台建设，不断提高核心竞争能力，向着成为具有竞争力的现代化企业的目标不懈努力。
详细信息
原子层淀积系统可生长品质优异的薄膜，设备*，稳定可靠。应用实例：高K栅氧化层，存储容性电介质，铜互连中高深宽比扩散阻挡层，OLED无针孔钝化层，MEMS的高均匀镀膜，纳米多孔结构镀膜，特种光纤掺杂，太阳能电池，平板显示器，光学薄膜，其它各类特殊结构纳米薄膜。
产品优势
*的软件控制系统：系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体
技术优势
支持多种制程工艺路线
设备占地空间小
设备产能高
机台保养维修方便，维护周期长，半年以上
设备成膜质量好，致密均匀度好
设备耗电量小
设备稳定性高，机械运动少，设备运行更稳定可靠
尾气已预处理
设备对干泵采取了必要措施保护，泵的维护周期更长
主要技术指标
基片加热温度：室温-500℃，控制精度： ±0.1℃
ALD阀：swagelok快速高温ALD阀
生长模式：连续高速沉积模式
控制系统：PLC+工控机
电源：50-60Hz，380V
沉积不均匀性：不均匀性<±1%；片间不均匀性<±1.5%
可沉积薄膜种类
单质：Co，Cu，Ta，Ti，W，Ge，Pt，Ru，Ni，Fe…
氮化物：TiO2，HfO2，SiO2，ZnO，ZrO2，Al2O3，La2O3，SnO2…
其他化合物：GaAs，AIP，InP，GaP，InAs，LaHfxOy，SrTiO3，SrTaO6…
