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Phoenix G2 ALD System 全自动原子层沉积系统（ALD）
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- Phoenix G2 ALD System
香港电子器材有限公司 成立于一九八五年，是一间为亚太地区半导体、电子及光电产业提供设备、材料以及技术销售与服务的公司。早在九零年代中就分别在中国台湾和新加坡设立分公司，以加强在远东地区的销售及服务能力。九零年代末期，亦在上海设立办事处，以迎接廿一世纪中国地区高科技领域飞腾时代的来临。到目前为止, 公司已于香港、新加坡、中国台湾、马来西亚及中国多个城市(包括北京、成都、大连、上海、深圳、苏州、天津、武汉及西安)设有服务中心, 为客户提供ZJ的服务。
香港电子 作为多种高科技设备制造商在远东地区的总代理，主要服务于半导体封装厂、芯片生产厂、液晶显示器厂、发光二极管厂、电路板厂，以及各大专院校和研究机构。完善的售后服务是香港电子一直以来所秉持的原则，为了维持良好的售后服务，工程师均定期的前往设备制造原厂接受培训或再培训，务求能为客户提供ZX的市场和产品信息，以及ZY质的售后服务。
其中光学产品线：美国普林斯顿CCD、光谱仪，加拿大Sciencetech太阳能模拟器、BNC延迟脉冲器、Gentec光电探测器、海洋光学光谱产品、Laser Quantum激光器、Crystalaser激光器、EOS红外探测器、Sydor Instruments X射线超高速扫描照相机
欢迎您浏览我们的网页。若您对我们的产品有进一步的需求或疑问，请与本公司总部或位于各地的办事处联络，我们将竭诚地为您提供及时的服务。WZ：www.teltec.biz PI公司 WZ：www.piacton.com
详细信息
全自动原子层沉积系统(ALD)
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，已安装五百多台ALD设备。
方式: Thermal batch ALD
优势: 大批量热ALD镀膜，可靠成熟，设计灵活，易于使用，并具有许多操作界面，许多内置安全功能
薄膜: 高达370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 对象自定义支架
设备尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm
功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)
ZG温度: 可达285°C
沉积均一性: Al2O3 晶片<1.5% / Al2O3批量<1%
前驱体源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml
载气/排气: N2 or Ar MFC flow control
原位分析选项: 臭氧发生器, LVPD,集成手套箱, 半自动负载
自动负载, SECS/GEM 界面
