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Fiji G2 Plasma ALD 维易科 全自动原子层沉积系统（ALD）
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- Fiji G2 Plasma ALD 维易科
香港电子器材有限公司 成立于一九八五年，是一间为亚太地区半导体、电子及光电产业提供设备、材料以及技术销售与服务的公司。早在九零年代中就分别在中国台湾和新加坡设立分公司，以加强在远东地区的销售及服务能力。九零年代末期，亦在上海设立办事处，以迎接廿一世纪中国地区高科技领域飞腾时代的来临。到目前为止, 公司已于香港、新加坡、中国台湾、马来西亚及中国多个城市(包括北京、成都、大连、上海、深圳、苏州、天津、武汉及西安)设有服务中心, 为客户提供ZJ的服务。
香港电子 作为多种高科技设备制造商在远东地区的总代理，主要服务于半导体封装厂、芯片生产厂、液晶显示器厂、发光二极管厂、电路板厂，以及各大专院校和研究机构。完善的售后服务是香港电子一直以来所秉持的原则，为了维持良好的售后服务，工程师均定期的前往设备制造原厂接受培训或再培训，务求能为客户提供ZX的市场和产品信息，以及ZY质的售后服务。
其中光学产品线：美国普林斯顿CCD、光谱仪，加拿大Sciencetech太阳能模拟器、BNC延迟脉冲器、Gentec光电探测器、海洋光学光谱产品、Laser Quantum激光器、Crystalaser激光器、EOS红外探测器、Sydor Instruments X射线超高速扫描照相机
欢迎您浏览我们的网页。若您对我们的产品有进一步的需求或疑问，请与本公司总部或位于各地的办事处联络，我们将竭诚地为您提供及时的服务。WZ：www.teltec.biz PI公司 WZ：www.piacton.com
详细信息
全自动原子层沉积系统(ALD)
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，已安装五百多台ALD设备。
方式: Plasma & Thermal ALD
优势: 标准自动加载锁定集成、加热、薄箔ALD trap
反应腔体大小: 可达200 mm
设备尺寸: 1845 x 715 x 1920 mm
操作模式: 连续模式(传统Thermal ALD) 曝光模式(超高深宽比) 等离子体模式(等离子体加强ALD)
功率: 220-240 VAC, 4200 W per reactor (不包含泵)
ZG温度: 标准200mm衬底加热至500°C / 可选100mm衬底加热至800°C
沉积均一性: 1σ均一性 / Thermal Al2O3 -1.5%, Plasma Al2O3 -1.5%循环时间: <2s per cycle with Al2O3 at 200°C
兼容: 标准四端口，可增加至六端口。每一个源瓶均可放固态/液态/气态前驱体，可独立加热至200°C
阀门: 工业标准ALD阀门(小响应10ms)
前驱体源瓶: 50cc(多填充25ml)不锈钢气瓶
原位分析选项: H2S兼容配件, 原位QCM, 原位椭便仪, RGA端口, 光发射光谱仪, 样品高度高达57mm的晶圆
臭氧发生器, LVPD, 集成手套箱, 衬底偏压
