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PLD脉冲激光沉积系统(美国NBM)
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昱臣半导体技术（香港）有限公司目前代理的主要产品包括：
- 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System)；
- 快速退火炉(RTP)；
- 回流焊炉，真空烧结炉(Reflow Solder System)；
- 探针台(Probe Station)，低温探针台(Cryogenic Probe Station)；
- 贴片机(Die Bonder)，划片机(Scriber)，球焊机/锲焊机(Wire Bonder)；
- 原子层沉积系统(ALD)，等离子增强原子层沉积设备(PEALD)；
- 磁控溅射镀膜机(Sputter)，电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator)，热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator)，脉冲激光沉积系统(PLD) ;
- 低压化学气相沉积系统(LPCVD)，等离子增强化学气相沉积系统(PECVD)，快速热化学气相沉积系统(RTCVD)；
- 反应离子刻蚀机(RIE)，ICP刻蚀机，等离子体刻蚀机；
- 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler)；
- 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate)；
- 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe)，光反射膜厚仪(Reflectometer)；
- 高温超导磁体(HTS Magnet)，快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer)；
详细信息
脉冲激光沉积系统-PLD
型号：AP-PLD230
脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。
我们PLD系统拥有性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。
技术参数配置:
1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;
2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境压力是300mtorr;
3.基板加热电源，到1200度;
4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-7 Torr;
5.样品传输室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;
6.排气系统:分子泵和干式机械泵;
7.阀门: 采用超高真空挡板阀;
8.真空检测:真空计;
9.气路两套: 采用气体流量计控制;
10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED;
11.监控软件系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;
12.各种电流导入及测温端子;
13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等;
