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GSE C200 多功能刻蚀机
- 型号
- GSE C200
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
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详细信息
1. 产品概述
GSE C200 多功能刻蚀机等离子体源设计，保证良好的刻蚀均匀性.GSE C200采用高密度等离子体源，刻蚀速率高、均匀性好、颗粒控制能力强、易维护、性能稳定。其在硅、氧化硅、氮化硅、氮化镓、砷化镓、磷化铟、铌酸锂、金属、有机物等多种材料的刻蚀上性能优良。本刻蚀机已进入多家IC Fab主流产线以及化合物等新兴应用量产产线，具有快速导产能力，同时针对大学、科研院所提供高性价比配置。
2. 设备用途/原理
GSE C200 多功能刻蚀机，等离子体源设计，保证良好的刻蚀均匀性。适用于滤波、光电、功率等多个应用领域的多种材料刻蚀与失效分析。刻蚀材料种类覆盖硅、氮化硅、氧化硅、锑化镓、聚酰亚胺、铌、金属、有机物等。提供研发所需的丰富的工艺数据库支持。
3. 设备特点
晶圆尺寸 8 英寸及以下，适用材料 硅、氧化硅、氮化硅、氮化镓、金属、有机物等，适用工艺多种材料刻蚀工艺，适用领域科研。
