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RIE-400iPB 深硅刻蚀设备
- 型号
- RIE-400iPB
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公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
1. 产品概述
RIE-400iPB是一款电感耦合等离子体放电设备，用于博世MEMS和电子元件工艺中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是为研究和开发目的而改装的。该系统由Robert Bosch GmbH（德国）授权，能够对MEMS和TSV所需的硅进行高速和高各向异性蚀刻。
2. 设备用途/原理
MEMS的制造（加速度传感器、陀螺仪、压力传感器、执行器等），μTAS等医疗设备的加工。
3. 设备特点
可以实现高速硅深孔加工，它具有的等离子体源和反应器结构，支持博世工艺，可实现硅的快速深钻。保持速度，减少扇形，通过高速切换气体，可以在保持蚀刻速度的同时减少扇形。可以进行SiO₂的蚀刻，可以通过更换用ICP线圈来处理SiO₂。
