1 产品概述:

   新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优势，通过结构设计和技术集成，实现了对材料表面高效、精确的处理能力。该设备集成了离子源、加速电极、聚焦透镜和控制电源等关键部件，能够产生并发射高能量、高密度的离子束，满足各种复杂工艺需求。

2 设备用途：

1. 薄膜沉积：新型离子枪可用于在基材上沉积各种金属、非金属及合金薄膜，如钨超细结构薄膜。这些薄膜在电子器件、光学元件、太阳能电池等领域具有广泛应用。

2. 表面清洁与刻蚀：通过离子束的轰击作用，可以去除材料表面的污染物、氧化物等杂质，实现表面清洁。同时，离子束还能对表面进行精细刻蚀，形成所需的微纳结构。

3. 深度分析：在样品表面分析中，新型离子枪可用于表面刻蚀和深度剖析，揭示材料内部的成分和结构信息。

4. 涂层与改性：利用离子束的沉积和改性作用，可以在材料表面形成具有特定功能的涂层，如防腐、耐磨、导电等涂层。

3 设备特点

  高效性：新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优点，具有更高的离子束能量密度和更快的物料反应速度，从而提高了处理效率。

  精确性：通过精确控制离子束的能量、束斑大小和扫描路径，可以实现对材料表面的精细处理，满足高精度加工需求。

  多功能性：该设备不仅可用于薄膜沉积、表面清洁与刻蚀等传统应用，还可拓展至表面改性、深度分析等新兴领域。
4 技术参数和特点：

可以简单地进行粒径1nm以下的钨超微粒子的包覆。

   通过使用Ar离子的离子束溅射法沉积的钨膜的粒径为0.2nm～0.5nm。即使在700,000倍SEM观察中也没有观察到颗粒感，非常适合高倍率观察。样品表面温度在50℃以下，因此可以进行热损伤小的涂层。可以在短时间内涂层。（真空度达到1Pa后所需时间3～5分钟）

  可以绕入，狭窄的间隙也可以进行涂层和附着力优良的涂层。可以得到不易附着污染的涂膜。目标，标准准备了钨，根据您的要求可以换成各种目标材料。

   可选：也可以蚀刻。