$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>其它薄膜沉积设备

NEXUS IBD 离子束沉积设备

型号
NEXUS IBD
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

卷对卷薄膜溅射系统

在线询价

卷对卷薄膜溅射系统

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

部件镀膜设备

在线询价

薄膜沉积PVD设备

在线询价

有机薄膜沉积和金属化系统

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1.产品概述:

NEXUS IBD是由VEECO研发的第三代NEXUS® 离子束沉积 (IBD),适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积。

2.产品原理:

离子束辅助沉积的原理是在离子束的作用下,将气态或液态物质引导到材料表面,通过物理或化学反应,形成固态薄膜。 离子束辅助沉积具有沉积温度低、薄膜质量高、可控制性好等优点,因此在光电、电子、能源等领域得到广泛应用。

3.产品优势:

数据存储制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 离子束沉积 (IBD) 系统大幅提高 80Gb/in2 传感器的产量,并满足未来 TFMH 设备制造的需求。

支持各种设备,从当的 CIP 到高 CPP 设备

MRAM 应用以及 GMR 和 TMR 薄膜磁头的理想选择

改进了所有准直沉积应用的 CD 控制

通过沉积羽流的对称到达获得更锐利的起飞角度

平台易于与 PVD、IBE 和其他技术集成




相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :