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PPS-8200p1/8300p1 日本orc半导体光刻机
- 型号
- PPS-8200p1/8300p1
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详细信息
日本orc半导体光刻机 PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各种应用
特长
-宽频谱光刻 (与菜单连动的 ghi线 gh线, i线的自动切换)
-搭载可变NA功能 (可变为0.16和0.1)
-最多8Field的拼接设计格式
-光学系统不受感光材挥发气体和周围环境中化学物质影响
制品规格
| 型式 | PPS-8200p1/8300p1 |
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| NA（开口数） | 0.16、0.1可变 |
| 缩小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波长 | ghi-Line gh-line i-line(与菜单连动) |
| 视野尺寸 | 6inch |
| 重复对位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 装置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
日本orc半导体光刻机 PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各种应用
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-宽频谱光刻 (与菜单连动的 ghi线 gh线, i线的自动切换)
-搭载可变NA功能 (可变为0.16和0.1)
-最多8Field的拼接设计格式
-光学系统不受感光材挥发气体和周围环境中化学物质影响
制品规格
| 型式 | PPS-8200p1/8300p1 |
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| NA（开口数） | 0.16、0.1可变 |
| 缩小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波长 | ghi-Line gh-line i-line(与菜单连动) |
| 视野尺寸 | 6inch |
| 重复对位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 装置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
