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SOPHI-400 日本ULVAC爱发科半导体兼容高能离子注入机
- 型号
- SOPHI-400
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详细信息
日本ULVAC爱发科半导体兼容高能离子注入机
日本ULVAC爱发科半导体兼容高能离子注入机
兼容高能离子注入机SOPHI-400
这是一种高能离子注入机，可处理高达 1200keV 的电压。
中电流离子注入机IMX-3500是一款最高能量为200kV、晶圆尺寸最大为8英寸的离子注入机，非常适合大学的研发。
特征
单片式
兼容薄晶圆
平行光束
最大晶圆尺寸为8英寸，配备可处理不规则形状基板的压板。
除了气体源之外，固体蒸发源也可用于易于安全处理 B、P 和 As 离子的离子源。
高压端子部分与量产设备配置相同，确保高可靠性。
目的
功率器件薄基板工艺、IGBT工艺
规格
板材尺寸：Max200mm
最大电压：Max1200 keV
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