微型激光直写光刻机是的桌面型高分辨率激光光刻系统，它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构，直写面积高达4英寸，zui小特征尺寸（宽度）可达1微米。
微型激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式，确保直接轨迹偏离小于100nm。具有电动光学聚焦系统，提供快速精准的聚焦功能，从而适合各种厚度衬底的要求，并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配，增强清洁程度，提高工作量和用户安全程度。
兼容大多数商用光刻胶，比如SU8，shipley, AZ等，我们还对K-CL胶特别优化，用于微结构应用。

微型激光直写光刻机特色
非常紧凑的桌面型设计
掩膜制作和激光直写
激光光源375nm 或405nm 任选
兼容所有商用光刻胶
对比度高达1x20
自动聚焦
竖直直写或扫描直写模式
微型激光直写光刻机参数
直线直写速度：>100mm/s
位移台分辨率：100nm
重复精度：100nm
晶圆直写面积：1-4英寸
衬底厚度：150um-5mm
激光光斑大小：1um-50um
标准准直精度：1um
form factor: 10