EMS 675X三靶溅射镀膜仪(样本制备）High Resolution, Large Sample Sputter Coater

    高分辨率，大样品，镀铬或其它金属

    EMS675X三靶溅射镀膜仪（样本制备）可用于8英寸（200mm）晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台，可进行渐进的椭圆形转动，这样使得溅射沉积更均匀。

EMS675X三靶溅射镀膜仪(样本制备）系统装有磁电管靶可增加溅射效率，它使用低电压，可得到薄而精细的涂层。在EMS675X中放置了三个靶面，可镀非常大直径的样品，加上旋转样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面，而用标准靶即可。多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵，前级为旋转机械泵。集成的仪器面板和即插即用的电子学zui大的“up-time”，还有用户友好设计，保证了多用户系统的应用。

可预设溅射参数，包括气体放气电磁阀。独立的真空泵系统由仪器自动控制。它可用金作为溅射靶材，在需要预清洗或去除氧化层时，也可选用其它靶材，如铬靶。

闸门作为标准配置，这样在维持真空时即可进行溅射清洁和溅射循环。

特点:

• 配置三个靶面
• 涡轮分子泵抽气系统
• 全自动控制
• Peltier冷却溅射头
• 精细涂层（0.5nm Cr粒子）
• 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置
• 薄膜沉积（典型为5nm）
• 直径为300mm腔室
• 可选双溅射头

优点:

• 可对大样品进行镀膜，如：8英寸晶圆
• 可溅射易氧化金属的精细颗粒，如：铬或铱
• 易操作
• 无需水冷却
• 超高分辨率，可复制涂层
• 适应各种样品
• 重复膜厚沉积
• 样品容易装载和卸载，包括8英寸晶圆
• 不需要打开真空即可进行两种金属顺序涂层

仪器参数：

仪器订购信息：