IBE离子束刻蚀

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为。

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：

• 低成本
• 离子束：高达2KV/10mA
• 离子电流密度100-360uA/cm2
• 离子束直径：4",5",6"
• 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
• 极限真空5x10-7Torr
• 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
• 14"不锈钢或铝质腔体
• 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
• 自动上下载片（NIE-3500）
• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
• 占地面积30"x30"

产品应用：

• 表面处理
• 离子铣
• 表面清洗
• 带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀