NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀

NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-11-13 10:48:15
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产地类别:进口;应用领域:医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药;
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产品属性
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医疗卫生,化工,生物产业,电子,制药
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那诺中国有限公司

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产品简介

NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。

详细介绍

IBE离子束刻蚀系统

NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品概述:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。

NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时,旋转晶圆片以达到想要的均匀度。

NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品特点:

 

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