CP4000化学抛光机

CP4000化学抛光机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-04-11 10:07:09
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北京华沛智同科技发展有限公司

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产品简介

Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......

详细介绍

Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require the use of specialised corrosive resistant equipment.

 

The CP4000 has been designed exactly for this application, and utilises a chemical etch polishing process to produce high quality results with minimal subsurface damage.

Ø Corrosive Resistant Construction

Ø Workdecks

Ø Polishing Plate

Ø Industry Standard System Architecture

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