LK-TECHNOLOGIES 低能电子衍射仪(LEED)-RVL2000

自1998年以来，LK一直在全球范围内提供*LEED低能电子衍射仪系统。

低能电子行射(LEED)仪是一种基本的表面仪器。它是分析表面结构的有效工具。它不仅能够研究清洁的单晶(金属、半导体及绝缘体)的表面结构,还能研究气体吸附的结构。图1是它的工作原理图。在超高真空条件下,低能电子枪发射的电子束垂直打到样品上,被样品表面上晶体点阵反向散射,在一定的条件下,背散射的弹性电子形成许多行射场分析器(RFA)拒斥非弹性电子,只允许行射束通过并在荧光屏上形成许多光斑。

LK-TECHNOLOGIES 低能电子衍射仪(LEED)RVL2000低能电子衍射仪(LEED)的精密反向LEED低能电子衍射仪光学元件采用所有UHV结构，无需使用玻璃纤维或聚合物涂层线束。提供完整系列的型号和选件，包括低电流（nA，pA）MCP型号。所有光学器件均采用4网格结构，以实现与俄歇电子能谱AES连用

采用4格钨光学元件的精密结构

微型1.59厘米直径电子枪

103度可用视角

0.5％的能量分辨率

提供可伸缩光学元件（标准2英寸和最大4英寸缩回）

安装法兰具有整体视口和电气穿通装置

与UHV兼容（不使用聚合物涂层或玻璃纤维绝缘线）

低噪音，高性能的俄歇电子设备，带有集成锁定放大器

MCP版本的pA和nA电流水平

全系列选项包括低调快门，CCD摄像头和软件，6英寸和8英寸外径法兰型号