50KEV光斑可调节离子源配备双灯丝可集成滤波器MODEL 1450

不平等离子枪离子源1450型设计特点

• 可调光斑尺寸≥5 μm，用于空间定义的溅射或注入
• 发射调节轰击提供稳定的离子电流
• 连续可变束能量5kV至50kV
• 用于光束扫描和散光校正的双八极杆
• 缩小光斑尺寸的预物镜扫描
• 灯丝不能直接对准样品，以免污染样品
• 客户可更换的灯丝和光束微调孔
• 双灯丝在灯丝寿命终止时提供操作支持
• 制造中使用的所有UHV兼容和抗蚀刻材料
• 差动泵送以最小化主室气体负载
• 在惰性气体和氮气范围内运行

50KEV光斑可调节离子源离子源1450型选配

• 用于氧气操作的氧化钍涂层铱丝
• 可变孔径，光斑尺寸低至1um
• 用于快速束脉冲的空白板
• 与铯、锂、钠、钾等一起操作的碱金属源
• 源烘箱允许产生可蒸发材料的离子

• 集成文氏滤波器的信号源

  
  

  
  

  
  

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• 离子源（英文名称：Ion source）是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的部件。

• 离子源是一门具有广泛应用领域的学科，在许多基础研究领域如原子物理、等离子化学、核物理等研究中，离子源都是十分重要的设备。