NONSEQUITUR 大束流离子源离子枪ION GUNS: MODEL 1404

NONSEQUITUR大束流离子源离子枪Model 1404设计特点：

高亮度电子冲击离子源

连续可变光束能量，最多3kV

束流0-10uA

支持所有惰性气体外加氮气，可选氧气功能，带Thoria涂层灯丝

所有材料采用超高真空和耐腐蚀材料

配备可用于可变蚀刻区域和光束准直的冷凝器透镜

配备用于计算机控制的USB接口和图形用户界面

离子源（英文名称：Ion source）是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的部件。

气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子，并被引出成束。根据不同的使用条件和用途，已研制出多种类型的离子源。使用较广泛的有弧放电离子源、PIG离子源、双等离子体离子源和双彭源这些源都是以气体放电过程为基础的,常被笼统地称为弧源。高频离子源则是由气体中的高频放电来产生离子的，也有广泛的用途。新型重离子源的出现，使重离子的电荷态显著提高,其中较成熟的有电子回旋共振离子源(ECR)和电子束离子源(EBIS)。负离子源性能较好的有转荷型和溅射型两种。在一定条件下，基于气体放电过程的各种离子源，都能提供一定的负离子束流。

离子源是一门具有广泛应用领域的学科，在许多基础研究领域如原子物理、等离子化学、核物理等研究中，离子源都是十分重要的设备。