美国kimball physics ELG-2电子枪系统
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EGPS-1022美国kimball physics ELG-2电子枪系统

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产品简介

美国kimball physics ELG-2电子枪系统
喷枪可聚焦小光斑，用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用；或用于泛光束，用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。

详细介绍

联系 龚经理 I8721868497 VX同号

美国kimball physics ELG-2电子枪系统

喷枪可聚焦小光斑，用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用；或用于泛光束，用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。

ELG-2 / EGPS-1022

能量范围： 1 eV 至 2k eV
光束电流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 0.5 mm 至 5 mm
安装： 2¾CF，可拆卸选项
特性/选项：用于能量扫描、偏转、光栅化、高速脉冲的变焦镜头聚焦

美国kimball physics ELG-2电子枪系统

Kimball Physics 电子枪，其设计用于各种超高真空 (UHV) 表面物理、空间物理和处理应用。喷枪可聚焦小光斑，用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用；或用于泛光束，用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。

操作范围：

  • ● 能量范围：1 eV 至 100 keV

  • ● 射束电流范围：1 nA 至 20 mA

  • ● 光斑尺寸范围：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

优势：

  • ● 客户可更换的点火装置

  • ● 操作期间的机械对准

  • ● 可存储的控制设置

  • ● 电脑遥控/计量

性能：

  • ● 光束电流稳定性：反馈稳定的发射电流控制；优于每小时 ± 0.1%

  • ● 能量稳定性：每小时 ± 0.01%，满输出时每 8 小时 ± 0.02%，以最大限度地减少色差

应用：

  • ● 快速脉冲/光束消隐

  • ● 偏转/光栅

  • ● 枪式法拉第杯




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