VAT 65.3控压真空摆阀

  VAT 65.3控压真空摆阀设定了下游压力控制和隔离的新标准。该系列控压摆阀专为半导体和显示器生产系统而设计，可在较宽的流导范围内提供精确的可控性。65.3 控压摆阀配备带有集成位置控制的电机，可提供改进功能。

驱动器控制器具有更高的 32 位数据处理能力，可提供全新可控性。这意味着可以非常快速、精细和准确地控制钟摆阀板的各个位置，从而在极短的响应时间内实现非常精确的下游压力控制。阀门的预设运动序列可根据各种不断变化的工艺参数，对速度和路线进行调整。65.3 控压摆阀还可防止粒子释放。阀板经过优化的阻尼关闭运动可避免传统阀门常见的冲击和振动。65.3 控压摆阀的闭合顺畅无碍，几乎察觉不到关闭和打开。阀板提供非常精确的机械引导，可确保往复运动中的无接触气流控制，并在密封运动的所有区域内实现均匀的密封。

65.3 控压摆阀已经安装在数百个各种工艺条件下的要求苛刻的应用中，证明了其稳定的可靠性和性能。65.3控压摆阀还是改造现有系统的理想之选。

65.3 控压摆阀的尺寸为 DN 100-350 mm (4" - 14")，采用铝或硬质阳极氧化铝制成，带有 ISO-F 和 JIS 标准法兰连接。可集成定制法兰，也可作为直接安装选项。标准密封材料为氟橡胶，并且可根据要求使用其他材料。

控制器可采用特殊控制算法（自适应、固定 PID、上游、软抽）。控制器上的各种标准端  口可通过个人计算机或连接到过程控制单 元 (PCU) 轻松访问。专用的控制性能分析仪 (CPA) 软件可轻松校准 65.3 控压摆阀并简化维护计划。

65.3控压真空摆阀主要特点及优势：

特点:

• 快速精确的压力控制

• 无冲击操作：无粒子生成

• 提高工艺稳定性：可控制所有流量和压力

• 带有控制性能分析仪 (CPA) 的 32 位集成压力调节器 (IC2)

• “即插即用”改造：无需校准或匹配

优势:

   ·       稳定的可靠性、精度和速度

   ·       维护周期延长

   ·       运行成本低

65.3 控压摆阀应用：

显示干式蚀刻

通常情况下，干式蚀刻通过离子轰击（通常是活性气体的等离子体）来移除和蚀刻半导体材料的遮蔽图案，从而将材料从暴露的表面移开。这个过程可能导致冷凝和高度的副作用，这可能影响真空阀的功能和可靠性。

过程控制和隔离

真空和气体流的高精度控制和隔离在半导体制造中是至关重要的。在上游和下游过程中，所有的阀门功能必须保证在大量的循环中具有精确的重复性。其结果是：在规定的时间间隔内精确的体积流量和一致的、可靠的密封。VAT控制和隔离阀在此设定了标准。

OLED喷墨打印

在OLED的喷墨印刷中，所需的有机材料在常规的大气条件下点滴在大型玻璃基材上的。精确的控制和隔离条件对于实现预期的生产质量和效率至关重要。VAT真空阀解决方案在这一领域设立了标准。

65.3 控压摆阀技术数据