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面议日本ULVAC爱发科半导体立式真空热处理炉
日本ULVAC爱发科半导体立式真空热处理炉
可广泛用于各种金属零件的淬火、回火、退火等真空热处理。提升机构可实现节省空间的两室结构：加热室和制备/冷却室。可以连续记录产品从加热到冷却完成的温度，以便控制产品质量。
最高温度为1350℃，可在800至1150℃的常规温度下使用。
热均匀性保证在 1150°C ± 5°C 范围内。
加热室始终保持真空，从而能够以良好的再现性进行高质量的热处理。
当热电偶安装在产品上时，可以执行从加热到冷却的一系列热处理，从而实现高质量控制，作为管理产品热历史的一种手段。
采用旋转冷却机构（选配），非常适合拉刀（刀具）等长而薄的产品的吊挂加工。
调质处理：各种工具钢、机械零件、飞机零件
钎焊加工：热交换器、机械零件、飞机零件、真空断路器
| 模型 | 四十五 | 60 | 90 | 120 | 评论 | ||
| 性能 | |||||||
| 尺寸 | 均匀加热尺寸[mm] | 直径 | 450 | 600 | 900 | 1200 | |
| 高度 | 450 | 600 | 900 | 1200 | |||
| 最大处理能力[公斤] | 180 | 320 | 900 | 1200 | 包括托盘重量 | ||
| 温度 | 最高温度 | 1350℃ | |||||
| 常用温度 | 800〜1150℃ | ||||||
| 均热性 | 1150℃±5℃以内（符合AMS等标准） | 在空炉中测量 5 个点 | |||||
| 冷却 | 气体冷却 | 93kPa | 30分钟内 | 插入标准样品时从 1150°C 到 150°C | |||
| 190千帕 | 20分钟内 | ||||||
| 真空 | 到达圧力 | 10 -1 Pa（10 -3 Torr）级（高真空10 -3 Pa（10 -5 Torr）级可选） | 空炉脱气后的值 | ||||
| 常压 | 133〜13帕斯卡 (1〜10 -1托尔) | ||||||
| 排气时间 | 10分钟内 | 15分钟内 | 在空气炉中从大气压到6.5Pa（5×10 -2 Torr） | ||||
| 泄漏量（Pa･m 3 /S） | 3×10 -4 | 4×10 -4 | 5×10 -4 | 由于压力增加 | |||
| 使用诸元 | |||||||
| 所用电力(kVA) | GH* | 65 | 101 | 209 | 278 | AC 200/ 220V | |
所用冷却水量 | GH* | 3 | 5 | 9 | 16 | 压力 250KPa 水温 30℃以下 | |
| 压缩空气量[Nm 3 /min] | 有些 | 700千帕 | |||||
| 载气量[L/min] | 1.5 | 2.2 | 7.2 | 10 | 氮气（NTP ） | ||
| 冷却气体量[m 3 /次] | 1.8 | 3 | 6 | 10 | 氮气（NTP ） | ||
| 建筑面积（平方米） | ２室 GH* | 3.4×5.1 | 4×6.3 | 6×9 | 7×10 | Ｗ×Ｌ | |
| 3.5×2.3 | 4×2.6 | 5×3.5 | 6×4 | 高×深 | |||
* 炉型：P=准备室、H=加热室、G=气冷室、L=油冷室
