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日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空热处理炉
日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空热处理炉
可广泛用于各种金属零件的淬火、回火、退火、钎焊、烧结等真空热处理。
采用高压、大流量惰性气体冷却机构,可实现金属零件的高速淬火。
水冷套结构可隔离炉内热量,减少热量对工作环境的影响。
*本产品目前由海外集团公司生产。
最高温度:1300℃
常温:500℃~1250℃
均匀温度:1150℃±5℃
能够对金属零件进行高速淬火
水冷夹套结构,保持工作环境清洁
标准使用钼加热器。还提供碳加热器规格
通过在炉内使用所有金属,减少了碳粉对质量的影响。
炉型 | 3-L05 | 4-L06 | 6-L09 | 6-L12 | 6-L14 | 8-L12 | 10-L15 | 12-L18 | 评论 | ||
表现 | 浸泡尺寸 | 宽度 [毫米] | 300 | 400 | 600 | 600 | 600 | 800 | 1000 | 1200 | |
高度 [毫米] | 300 | 400 | 600 | 600 | 600 | 800 | 1000 | 1200 | |||
深度 [毫米] | 450 | 600 | 900 | 1200 | 1400 | 1200 | 1500 | 1800 | |||
标准加工重量[kg] | 100 | 200 | 500 | 500 | 1000 | 1200 | 1500 | 2500 | 包括托盘重量 | ||
温度 | 最高温度[℃] | 1300 | |||||||||
常用温度[℃] | 500~1250 | ||||||||||
均匀温度[℃] | 1150±5 | 空炉中5点/9点测量 | |||||||||
真空 | 极限压力 [Pa] | 3×10 -3 Pa以下 | 空炉脱气后,室温 | ||||||||
泄漏量[Pa·m 3 /秒] | 8.5×10 -4以下 | ||||||||||
冷却 | 冷却时间 [分钟] | 30/25以内 | 35/25以内 | 45/40以内 | 50以内 | 1150℃至150℃ | |||||
冷却气体压力 [MPa 绝对] | 0.09/0.29 | 0.09 | 取决于所需规格 | ||||||||
使用规格 | 安装尺寸 | 宽度 [米] | 2.8 | 3.4 | 5.0 | 5.0 | 5.0 | 5.2 | 5.5 | 5.5 | |
深度 [米] | 3.0 | 4.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 6.0 | 7.0 | 7.5 | |||
高度[米] | 2.5 | 3.2 | 3.2 | 3.2 | 3.2 | 4.5 | 4.5 | 5.5 | |||
电容量[kVA] | 85 | 145 | 220 | 220 | 第232章 | 240 | 第470章 | 600 | |||
冷却水量[m 3 /hr] | 10 | 15 | 20 | 20 | 20 | 30 | 40 | 45 | |||
惰性气体量[m 3 /次] | 1.5/4.4 | 3/9 | 7/21 | 7/21 | 8/24 | 9/27 | 13/39 | 18 | |||
压缩空气气量[NL/min] | 260 | 600 | 600 | 600 | 600 | 960 | 960 | 1500 |