一、光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
二、组成步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜、将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路、
用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质、模版和晶圆大小一样，模版不动、模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。
三、曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在3千万至5亿美元。
四、投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，光刻机号称精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的光刻机)和日本Canon三品牌为主。
五、工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台(XY)、掩模样片相对运动台(XY)、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。
